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2024.11.01.
特許庁が 特許行政年次報告書2024年版を発表しました。 日本国内の特許出願件数は、コロナ禍の間は低調でしたが、 徐々に回復して、コロナ禍以前の水準に戻りつつあります。 一方、日本国内の商標出願件数は、この数年は減少傾向にあります。 今後、コロナ禍で業績が悪かった企業の業績が回復してくるにつれて、 日本国内の商標出願件数も増えてくるものと思われます。
2024.10.08.
米国特許商標庁が、 特許出願におけるfinal Office Actionに対する応答の際に認めていた the After Final Consideration Pilot Program 2.0 (AFCP 2.0) のリクエストを、 2024年12月14日をもって打ち切るとのことです。 詳しくは、米国特許商標庁の Federal Register noticeをご覧ください。 今後は、RCE(Request for Continued Examination)の件数が増えるかもしれません。
2024.6.10.
改正意匠法に基づく新たな保護対象等についての意匠登録出願動向が、令和6年5月14日に発表されました。 新たな保護対象についての意匠登録出願件数は、画像(5,688) 建築物(1,583) 内装(1,027)となっており、 登録件数が、画像(3,983) 建築物(1,136) 内装(729)となっております。 出願及び登録共に、画像の意匠の件数が多いようです。
出典: 特許庁ホームページの令和元年意匠法改正特設サイト

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